企名片资讯|米格实验室自有实验室正式对外--好用不贵！

自有实验室●●

历时一年的筹备和打磨，创客总部校友米格实验室北京中心实验室挂牌对外开发，聘请了专业的硕士博士团队，一线的工作经验，高端的设备，为客户的研发检测工作保驾护航。目前实验室运营的设备有形貌分析、电镜技术、样品制备、成分分析等。。。

资料介绍

1.聚焦离子束-电子束双束系统（FIB-SEM）

厂家：美国thermo scientific（FEI）型号：Scios 2

//技术参数

1.电子束电流范围：1pA-400nA；2.电子束电压：200eV-30keV，具有减速模式；3.电子书分辨率：0.7nm（30keV）、1.4nm（1keV）；4.大束流Sidewinder离子镜筒；5.离子束加速电压500V-30kV(分辨率：3.0nm)；6.离子束束流：1.5pA-65nA，15孔光阑。

//功能特色

1.GIS气体注入：Pt沉积；2.Easylift纳米机械手（精度<500nm）；3.ETDSE-T1(筒内低位)、T（高位）探头；4.Nav-camTM：样品室内光学导航相机；5.Auto TEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件。

//主要用途

自有实验室

2.扫描电子显微镜（SEM）

厂家：德国 CARL ZEISS型号：Zeiss SIGMA

//技术参数

1.电镜二次电子像分辨率可达1.3nm（20kV）；2.电子源加速电压调整范围为100V~30kV；3.放大倍数为12X~1000,000X；4.可分析元素范围：Be4~U92；5.电子数字图像最大清晰度为8192X6400、X射线成分图最大清晰度为2048X1600；6.超高分辨EBSD相机，相机分辨率1392x1040x12；

//主要用途

1.应用于金属材料（钢铁、冶金、有色、机械加工）和非金属材料（化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维）等检验和研究。2.在材料科学、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域，进行材料的形貌组织观察、材料断口分析和失效分析，晶粒尺寸、形状分析、晶体晶粒取向测试等。

自有实验室

3.原子力显微镜（AFM）

厂家：美国 Bruker Nano Inc型号：Dimension Icon

//技术参数

1.扫描范围90μmx90μmx10μm；2.具有多种测量模式，包括原子力显微镜横向力/摩擦力显微镜、磁力显微镜、静电力显微镜、表面电势测量、力曲线/力普测量；3.噪声水平小于0.3Å；4.原子级分辨率。

//主要功能与用途

1.可以对电场、磁场、表面电场势、液体测量等多种信息进行测量具有轻敲模式（Tapping Mode）、相位成像模式（Phasemaging）、抬起模式（liftMode）和扭矩共振模式（TR-MODR）等；2.具有智能扫描（ScanAsyst）功能，在扫描过程中能够根据样品表面的特性，自动调整参数，并得到高分辨的图像，可大气及液体环境下直接成像，无需扫描共振峰，无需调整反馈参数；3.可8通道同时采集数据5120X5120；4.可用于电力电子器件检测和材料分析检测。

自有实验室

4.激光拉曼光谱仪

厂家：英国雷尼绍型号：RENISHAW inVia

//技术参数

1.通光效率大于30％；2.光谱范围：200nm-1000nm，光谱分辨率：1cm-1；3.空间分辨率：横向0.5微米，纵向2微米；4.低波数：200cm-1,100cm-1,50cm-1，10cm-1供选择；5.可选激光器：紫外到近红外，10余种不同波长供选择。

//用途

1.研究物质分子结构和晶格振动的方法，该仪器可对固体、粉末液体等样品进行非破坏性直接测试。2. 可对样品进行点、线、面、深度的拉曼成像，由此可进行对物质结构分析、成分鉴别等研究。

自有实验室

5.波长色散X射线荧光光谱仪

厂家：日本RIGAKU

型号：ZSXPrimus II

//技术参数

X射线发生器部分1.X射线管：端窗式Rh靶 4kW或3kW；2.高压发生器：高频变频方式；3.额定电压,电流：4kW,60kV-150mA；4.稳定度：±0.005%(对电源±10%变化时)；5.冷却水：水冷冷却水(内置)。分光部部分1.样品交换器：可以选择12,24,36,48样品交换器；2.样品尺寸：φ51mmx40mm(H)；3.分析样品面：最大φ35mm；4.样品旋转：30rpm；5.1次X射线滤波片：4种(Al,Ti,Cu,Zr)；6.视野限制光阑：6种自动交换机构(φ35,30,20,10,1,0.5 mm)；7.发散狭缝：3种自动交换机构(标准分辨率、高分辨率、超轻元素用(选件)；8.接收狭缝：SC用,F-PC用；9.测角仪：θ-2θ独立驱动；10.测角范围：SC、5°-118°， F-PC、13°-148°；11.最大扫描速度：1400°/min(2θ)；12.连续扫描：0.1-240°/min；13.晶体交换机构：10分光晶体自动交换机构；14.分光晶体：(标准)LiF(200)、Ge、PET、RX25 (选件)LiF(220)、RX4、RX9、RX35、RX40、RX45、RX61、RX75、RX80、RX61F、TAP。

//用途

利用x射线激发样品的荧光x射线‘从而快速无损的分析样品所含的元素（F-U）对所含元素进行定性和半定量分析。该仪器还可实现对微小区域的元素分布情况进行测量，以云图的方式显示各个元素的分布情况。

自有实验室

6.扫描/透射电子显微镜(S/TEM)

型号：Talos F200X

//技术参数

1.X-FEG 亮度：1.8 × 109 A/cm2 srad（200 kV 时）；2.总电子束电流：> 50nA；3.束斑电流：1.5 nA @ 1 nm 束斑 (200 kV)；4.TEM 信息分辨率：0.12nm；5.STEM HAADF 分辨率：0.16nm；6.EDX 立体角：0.9srad；7.最大衍射角度：24°；8.双倾样品杆的最大倾斜角度：± 35° α 倾角 /± 30°β 倾角；9.Super-X EDS 系统：采用对称设计的 SDD 能谱探头，无窗设计，受机械快门保护；10.能量分辨率：Mn-Kα和10 kcps时≤ 136 eV（输出）；11.快速 EDS 面分析：像素驻留时间短至 10 µs。

//主要特点

1.高分辨率成像，获取更高质量的数据；2.视野更大，速度更快；3.加快纳米级分析以更快获取答案；4.更轻松地开展研究。

//配置情况

1.领先的光学性能：恒定功率 X-TWIN 物镜;2.最大程度提高易用性：快速轻松的操作切换，适用于多用户环境；3.超稳定平台：恒定功率物镜、压电载物台、牢固的系统机壳和远程操作可确保最高的稳定性；4.SmartCam 摄像头：数字搜索和查看摄像头显著提高了操作便利性，让使用者可以离开暗室进行远程操作；5.完全集成的快速相机：Ceta 16M 像素 CMOS 相机可提供大视场和高读取速度（512 x 512 时为 25 fps）；6.全面的远程操作：自动光阑系统与 Ceta 相机相结合，支持全面的远程操作；7.丰富的分析功能：Talos S/TEM 使用 EDS 立体成像技术将样品成分分析功能从二维扩展至三维。

//主要优势

1.更好的图像数据：配备同步多重信号检测的高通量STEM成像可实现更好的对比度，从而可提高高质量图像。2.更短的化学成分数据生成时间：快速、精确且量化的EDS分析可揭示纳米级细节。3.强大的应用扩展能力：添加特定应用的原位样品杆以开展动态实验。

//适用样品

自有实验室